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OTF-1200X-II-HPV是一款1100℃雙溫區(qū)立式高溫高壓爐，爐管采用鎳基合金鋼管制作，具有較高的蠕變強度和抗氧化性。爐管可承受的最高溫度為1100℃（在此溫度下可承受的壓力為3MPa).此款設備適合用水浴法制備材料，也特別適合在高壓氧環(huán)境下對樣品進行熱處理。法蘭上安裝有電磁閥，當爐管內壓力高于設定值時，電磁發(fā)自動打開排出氣體減小管內氣壓。

GSL-1800X-III是一款1800℃三溫區(qū)管式爐，采用進口 Kathal Super-1900C 硅鉬棒作為加熱元件，以氧化鋁纖維板作為爐膛材料，并且內部嵌有氧化鋯纖維。儀器配有60*1200mm的剛玉管和一套不銹鋼法蘭，法蘭上開有dia30mm的石英窗口，以供客戶使用。

GSL-1700X-III-F3LV是一款通過CE認證的三溫區(qū)管式爐CVD系統，其爐管直徑為60mm,其真空泵采用雙旋機械泵，混氣系統為3路浮子混氣系統。此高溫爐燒結溫度可達1700℃，真空度可達到5x10-2 torr ，可以混合1-3種氣體。 GSL-1700X-III-F3LV 1700℃三溫區(qū)管式爐

OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款雙溫區(qū)帶有升降雙通道進料系統的共蒸發(fā)多層沉積管式爐，通過升降雙通道進料系統可裝載4個不同材料的蒸發(fā)坩堝舟，并且可一次同時送入兩個蒸發(fā)坩堝源進入管式爐中進行共蒸發(fā)或反應蒸發(fā)。雙溫區(qū)管式爐可以實現快速加熱，并且通過對各個溫區(qū)設置不同的加熱溫度可以創(chuàng)建不同的溫度梯度從而實現蒸發(fā)沉積。 OTF-1200X-Ⅱ-S2 1200℃多坩堝同時移動型管式爐

OTF-1200X-5L-R-CVD是一款旋轉CVD爐。爐體有3個加熱區(qū)，可提高溫度均勻性，同時配有4通道的精密混氣系統。此款管式爐設計主要用于電池粉體材料表面包覆或其他粉體材料表面修飾。 OTF-1200X-5L-R-CVD 1200℃旋轉CVD管式爐

OTF-1200X單溫區(qū)開啟式真空管式爐采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。內爐膛表面涂有1750℃美國進口的高溫氧化鋁涂層材料提高反射率及設備的加熱效率和爐膛潔凈度，同時延長儀器的使用壽命。$n1200℃開啟式管式爐